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반도체 기초 이론 / 반도체 물리 · 약 5분 읽기
페르미 준위
페르미 준위(Fermi level, $E_F$)는 전자가 에너지 상태를 채우는 정도를 나타내는 기준 에너지이다. 열평형 상태에서 어떤 에너지 상태를 전자가 차지할 확률은 페르미-디랙 분포를 따르며, $E = E_F$인 상태를 전자가 차지할 확률은 정확히 50%이다.
$$ f(E) = \frac{1}{1 + e^{(E-E_F)/kT}} $$
절대영도(0K)에서는 $E_F$ 아래의 상태는 모두 채워지고 위의 상태는 모두 비어 있다. 온도가 오르면 $E_F$ 근처의 경계가 흐려지면서 일부 전자가 위로 올라간다. 반도체에서 $E_F$ 자리는 밴드갭 안에 있을 수 있어서, 그 자리에 전자가 실제로 존재하지 않아도 기준 에너지로서 의미가 있다.
에너지 밴드가 뭔가요?
반도체의 전기적 성질은 전도대에 전자가 얼마나 있는지, 가전자대에 이 얼마나 있는지로 정해진다. 페르미 준위는 이 두 농도를 한꺼번에 알려 주는 기준이다. 또한 서로 다른 재료를 붙였을 때 전자가 어느 쪽으로 옮겨 가는지(접합의 밴드 휘어짐)를 이해하는 출발점이 되므로, 소자 설계와 분석에 필수적이다.
- 진성 반도체: 도핑하지 않은 반도체에서는 전자와 정공 수가 같으므로 $E_F$가 의 거의 가운데에 있다($E_i$라고도 한다).
- N형 반도체: 도너 불순물로 전자가 많아지므로 $E_F$가 전도대($E_c$) 쪽으로 올라간다. 도핑 농도가 높을수록 더 가까워진다.
- P형 반도체: 억셉터 불순물로 정공이 많아지므로 $E_F$가 가전자대($E_v$) 쪽으로 내려간다.
- 열평형에서의 일치: 서로 접촉한 물질은 열평형에서 $E_F$가 하나로 같아진다. PN 접합에서 밴드가 휘어지는 이유가 이것이다.
$E_F$가 밴드 끝에서 $kT$보다 충분히 멀리 있으면(비축퇴) 캐리어 농도는 다음과 같이 근사한다.
$$ n = N_c\, e^{-\frac{E_c - E_F}{kT}} $$
$$ p = N_v\, e^{-\frac{E_F - E_v}{kT}} $$
- $n$, $p$: 전도대의 전자 농도, 가전자대의 정공 농도
- $N_c$, $N_v$: 전도대와 가전자대의 유효 상태 밀도
- $E_c$, $E_v$: 전도대 바닥, 가전자대 꼭대기 에너지
- $E_F$: 페르미 준위, $k$: 볼츠만 상수, $T$: 절대 온도
$E_F$가 $E_c$에 가까울수록 $n$이 커지고 $E_v$에 가까울수록 $p$가 커진다. 두 식을 곱하면 $np = n_i^2$로, 도핑을 해도 $n$과 $p$의 곱은 같은 온도에서 일정하다.
| 종류 | 페르미 준위의 위치 | 다수 캐리어 |
|---|---|---|
| 진성 반도체 | 밴드갭의 거의 가운데 | 전자와 정공이 같은 수 |
| N형 반도체 | 전도대 쪽으로 올라감 | 전자 |
| P형 반도체 | 가전자대 쪽으로 내려감 | 정공 |
| 축퇴 반도체 (아주 높은 도핑) | 전도대 또는 가전자대 안쪽으로 들어감 | 금속처럼 많은 캐리어 |
| 변수 | 영향 |
|---|---|
| 불순물 농도 | N형은 도핑이 많을수록 $E_F$가 $E_c$에 가까워지고, P형은 많을수록 $E_v$에 가까워진다. |
| 온도 (T) | 상온 이상에서 온도가 오르면 열로 생기는 전자-정공 쌍이 늘어, 도핑된 반도체의 $E_F$는 밴드갭 가운데($E_i$) 쪽으로 이동한다. 아주 높은 온도에서는 진성 반도체처럼 행동한다. |
| 물질의 밴드 구조 | 밴드갭과 상태 밀도가 달라지면 $E_F$의 위치도 달라진다. |
온도가 올라간다고 해서 $E_F$가 단순히 올라가는 것이 아니다. 상온 이상에서 도핑된 반도체의 $E_F$는 온도가 높아질수록 가운데로 다가간다.
장점: - 도핑과 온도에 따른 전자·정공 농도를 한눈에 설명한다. - 접합이나 금속-반도체 접촉에서 밴드가 어떻게 휘는지 이해하게 해 준다.
한계: - 열평형 상태를 전제로 한다. 전압을 걸어 전류가 흐르는 상태에서는 전자와 정공에 각각 따로 준(準)페르미 준위를 쓴다. - 앞의 근사식은 도핑이 지나치게 높은 축퇴 상태에서는 맞지 않는다.
- 문제: 도핑 농도가 목표와 다르면 $E_F$ 위치가 달라져 과 저항이 설계와 어긋난다.
- 해결 방향: 이온 주입의 에너지와 도즈, 열처리 조건을 정밀하게 제어하고 측정(4점 탐침, C-V)으로 확인한다.
- 문제: 온도가 변하면 캐리어 농도가 달라져 소자 특성이 변한다.
- 해결 방향: 온도 변화에도 동작이 유지되도록 설계 여유를 두고 온도 보상 회로를 쓴다.
- 페르미 준위: 열평형에서 전자 점유 확률이 50%가 되는 에너지
- 진성은 밴드갭 가운데, N형은 전도대 쪽, P형은 가전자대 쪽
- 도핑이 많을수록 $E_F$는 더 밴드 끝에 가까워진다.
- 상온 이상에서 온도가 오르면 도핑된 반도체의 $E_F$는 가운데($E_i$)로 다가간다.
- 열평형에서 접촉한 물질의 $E_F$는 하나로 같아진다.