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반도체 8대 공정 / 5. 박막 증착 공정 (Deposition) · 약 4분 읽기
단차 피복성
단차 피복성(Step Coverage)은 박막이 홈이나 계단 같은 단차 구조를 얼마나 고르게 덮는지를 나타내는 지표이다. 보통 단차 측벽(또는 바닥)에 쌓인 막 두께를 윗면에 쌓인 막 두께로 나눈 비율로 표현하며, 100%에 가까울수록 잘 덮은 것이다. 박막 증착 공정에서 중요한 성능 지표이다.
현대 소자는 깊고 좁은 홈, 구멍, 계단 구조가 많다. 이런 곳에서 막이 모서리나 측벽에 얇게 쌓이면 그 부분의 막이 끊기거나 저항이 높아지고, 절연막이라면 얇은 곳으로 가 흐르거나 이웃 배선과 단락될 수 있다. 홈 입구가 먼저 닫히면 안쪽에 빈 공간(보이드)이 남기도 한다. 따라서 피복성은 소자의 전기적 특성과 신뢰성, 수율에 직접 영향을 미친다.
눈이 오는 날 깊은 골목을 떠올려 보자. 눈이 위에서 비스듬히 날아오면 건물 지붕과 골목 입구에는 눈이 쌓여도 골목 깊숙한 바닥과 벽에는 거의 쌓이지 않는다. 증착도 같다. 입자가 직선으로 날아오는 방식은 입구에 많이 쌓이고, 눈이 골목 안에서 사방으로 퍼지며 천천히 내리는 방식은 골목 안까지 고르게 쌓인다. 홈이 깊고 좁을수록(종횡비가 클수록) 이 차이가 크게 나타난다.
| 요인 | 영향 |
|---|---|
| 증착 방식 | PVD(스퍼터링)는 방향성이 강해 피복성이 나쁘고, CVD는 보통 중간, ALD는 거의 100%에 가깝다. |
| 종횡비(깊이÷폭) | 클수록 홈 안쪽까지 입자가 도달하기 어려워 피복성이 나빠진다. |
| 입자의 부착 확률 | 표면에 닿자마자 붙는 확률이 클수록 입구에 먼저 쌓여 피복성이 나빠진다. |
| 압력 | 높으면 입자가 충돌로 흩어져 사방에서 도달하므로 피복성이 개선되기도 한다. |
| 온도 | CVD에서는 온도가 너무 높으면 반응이 입구에서 다 끝나 피복성이 나빠질 수 있고, 적절히 낮추면 홈 안까지 반응이 퍼진다. |
- 방향성이 강한 증착: 입자가 위에서 직선으로 날아와 입구와 윗면에 먼저 쌓인다.
- 입구 오버행: 홈 입구에 막이 두껍게 쌓여 홈이 좁아지면 안쪽으로 들어가는 입자가 더 줄어든다.
- 부착 확률이 큰 반응: 입자가 닿는 첫 자리에서 거의 다 붙어 안쪽에 도달하지 못한다.
단차 피복성은 단면 SEM이나 TEM 사진으로 윗면, 측벽, 바닥의 막 두께를 직접 재서 비율을 구한다. 막이 끊긴 곳이나 보이드도 같은 사진에서 확인한다. 반면 AFM은 표면의 높낮이를 재는 도구라서 홈 안쪽 막 두께를 재기에는 적합하지 않고, XPS는 박막의 화학적 조성을 분석하는 방법이라 피복성을 직접 재지 않는다.
현업에서는 피복성이 나빠서 생기는 끊김(개방), 누설, 단락, 보이드가 불량과 수율 저하로 이어진다. 구리 배선의 확산 방지막(배리어)이나 절연막처럼 매우 얇고 균일해야 하는 막은 피복성이 나쁘면 소자 신뢰성이 크게 떨어진다. 미세화로 종횡비가 커질수록 문제는 더 심각해진다.
- 증착 방식 선택: 깊고 좁은 구조에는 표면 반응이 한 층씩 일어나는 ALD를, 그다음으로 CVD를 쓴다.
- PVD 개선: 이온화 스퍼터링, 타겟과 간격 조정, 웨이퍼 바이어스로 입자의 방향을 모아 홈 바닥까지 도달시킨다.
- 증착-식각 반복: 입구에 쌓인 막을 식각으로 깎아 내면서 채우면 보이드를 줄일 수 있다.
- 구조·전처리 개선: 입구를 완만하게 만들어 종횡비를 낮추고 표면을 깨끗이 해서 막이 고르게 붙게 한다.
- 단차 피복성: 박막이 단차 구조를 얼마나 고르게 덮는지(측벽 두께 ÷ 윗면 두께)
- 좋은 순서: ALD > CVD > PVD(스퍼터링) > 증발 증착
- 나빠지는 원인: 방향성이 강한 증착, 큰 종횡비, 입구 오버행
- 불량: 끊김, 누설, 단락, 보이드
- 측정: 단면 SEM·TEM으로 두께 비율 확인